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化工完整的工艺流程及操作步骤 化工流程图题的知识点总结

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沉淀是固体吗 化工流程总结-连载3-满满的干货

五、常见问题归纳

化工完整的工艺流程及操作步骤 化工流程图题的知识点总结

原料处理阶段的常见考点

粉碎或研磨:

加热:

搅拌:

浸出:固体加水(酸或碱)溶解得到离子

水浸:

酸浸:

碱浸:

浸出率:固体溶解后,离子在溶液中含量的多少(更多转化)

增大原料浸出率的措施:

5、灼烧:

6、煅烧:

【答案】1、粉碎或研磨:增大固液(或固气或固固)接触面积,加快反应(溶解)速率,增大原料的转化率(或浸取率)。

2、 加热:增加物质的溶解度、加快反应速率、促进反应朝需要的方向移动 3、搅拌:加快溶解速率、增大原料浸出率

3、 浸出:固体加水(酸或碱)溶解得到离子:

水浸:与水接触反应或溶解; 酸浸:酸溶、去氧化物(膜)、调节pH促进水解(沉淀); 碱浸:去油污,溶解铝、去铝片氧化膜,二氧化硅,调节pH促进水解(沉淀);浸出率:固体溶解后,离子在溶液中含量的多少(更多转化);增大原料浸出率(离子在溶液中的含量多少)的措施:搅拌、升高温度、延长浸出时间;增大气体的流速(浓度、压强)、增大气液或固液接触面积 5、灼烧:除去可燃性杂质或使原料初步转化,将不易转化的物质转化为易提取的物质(如海带中提取碘)。 6、煅烧:改变结构,使一些杂质(如有机物)在高温下氧化、分解。

实验条件的控制(工业合成氨气为例)

1.调pH:

(1)主要目的:

(2)调节pH所需的物质一般应满足两点: 、

(3)一般选用: 、 、

例如,若要除去Cu2+溶液中混有的Fe3+,可加入 物质来调节溶液的pH值。

调pH值使得Cu2+(4.7-6.2)中的Fe3+(2.1~3.2)沉淀,pH值范围是: (原因 )

【答案】(1)控制溶液的酸碱性,促进“某离子”水解形成氢氧化物,使其沉淀,利于过滤分离;防止“某离子”水解、防止“某离子”沉淀、确保“某离子”完全沉淀、防止“某物质”溶解等。(在题目中常以表格形式给出信息);

(2)能与H+/OH-反应,使溶液pH值增大/减小;不引入新杂质。一般选用主要元素对应的氧化物、碳酸盐、碱。 CuO、Cu(OH)2、Cu2(OH)2CO3等 3.2~4.7 调节溶液的pH值至3.2~4.7,使Fe3+全部以Fe(OH)3沉淀的形式析出而Cu2+不沉淀,且不会引入新杂质

2.控制温度(工业合成氨气为例)

控制温度的 *** :

用水浴(原因: )、油浴、

趁热过滤(目的: )、冰水冷却、反应自身放热等

控制在什么范围:要充分利用物质的性质(溶解性、热稳定性、挥发性、沸点等)、图表数据信息等来分析

为什么要控制温度

温度过高的后果:

温度过低的后果:

【答案】(1)受热均匀,温度可控,且温度不超过100℃ 让产品溶解,防止其结晶损失,提高产品纯度

(3)温度过高的后果:会溶解(或分解)损失(H2O2、NH4HCO3)、挥发(浓HNO3)、氧化(Na2SO3)、汽化、水解、放热反应产率低、反应太快、副反应、影响催化剂的活性、能耗大、成本高; 温度过低的后果:溶解慢、反应慢、吸热反应产率低、影响催化剂的活性、副反应。

控制压强

控制介质

(1)不在空气中进行实验的原因:

(2) 在HCl气流中实验的原因: (如何从MgCl26H2O中得到无水MgCl2?)

(3) 不在水中进行实验的原因:

(4)加入有机溶剂的原因:

(5)加入氧化剂:

【答案】(1)防止氧化 (2)防止水解;带走蒸发出来的水蒸气,加快反应速率 (3)防止溶解或者水解

(4)萃取某些物质,或者降低某些物质的溶解度 (5)氧化某物质转化为易被除去(形成沉淀)的离子(除Fe2+ 加H2O2,氧化成Fe3+,调节pH使其沉淀,除去)

分离提纯阶段的常见考点

分离提纯的基本 *** /实验:

溶解、过滤、蒸发、结晶、分液、萃取、 沉淀(沉淀剂/调节pH)、洗涤(水洗、冰水洗、有机溶剂洗)、干燥、控制温度、调pH值法等

获得产品阶段的常见考点

1、检验是否沉淀完全:

2、洗涤:

(1)洗涤的 *** :

(2)洗涤的目的:

(3)洗净的检验:

乙醇洗涤的目的:

3、蒸发、反应时的气体氛围:如从溶液中析出FeCl3、AlCl3、MgCl2等溶质时,应在HCl的气流中加热,目的: 。

4、结晶

单一溶液:

(1)所得晶体不带结晶水,如NaCl、KNO3等:

(2)所得晶体带结晶水,如胆矾等:

当溶液为两种以上溶质时:

(1)如除去NaCl中的少量KNO3:

(2)如除去KNO3中的少量NaCl:

5、重结晶

6、减压蒸馏(减压蒸发)的原因:

7、事先煮沸溶液的原因:

【答案】1、(检验 *** 根离子)将溶液静置一段时间后向上层清液滴入氯化钡溶液(相应的沉淀剂),若无沉淀生成,则沉淀完全。 2、(1)向过滤器中滴加溶剂至浸没固体表面,静置,使其自然流下,重复操作2-3次。 洗涤的目的:洗去晶体表面的杂质离子,并减少晶体在洗涤过程中的溶解损耗,提高产率。 洗净的检验:取洗涤后最后几滴滤液,(若要检验氯离子)滴加AgNO3和稀硝酸,若无沉淀产生,则证明洗涤干净。(2)降低被洗涤物质的溶解度,减少目标物的溶解损耗或增大有机杂质的溶解量;防止目标物形成结晶水合物;使晶体快速干燥。 3、以防其水解。 4、单一溶液:(1)蒸发结晶(2)将滤液蒸发浓缩、冷却结晶、过滤;当溶液为两种以上溶质时:(1)蒸发结晶、趁热过滤、洗涤、干燥 (2)蒸发浓缩、冷却结晶、过滤、洗涤、干燥 6、减小压强,使液体沸点降低,防止(如H2O2、浓硝酸、NH4HCO3)受热分解/挥发 7、排除溶解的气体,防止造成干扰。促进水解,聚沉后利于过滤分离。

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